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多因素驱动 高纯金属靶材国产化空间大

2020-09-01 17:15      责任编辑:林雨    来源:haofayi.com    点击: 次
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多因素驱动 高纯金属靶材国产化空间大
 
  高纯金属靶材包括铝靶、钛靶、钽靶、钨钛靶等,具有良好的导电、导热性能,是电子材料的重要组成部分,可用于制备电子薄膜材料,进而应用于半导体、平板显示器、太阳能电、信息存储及光学应用等领域。

  不同应用领域对高纯金属靶材的性能具有要求具有较大的差异化,导致高纯金属靶材行业具有较强的专业性,例如半导体芯片领域对高纯金属靶材的纯度、精度尺寸、集成度等要求较高;平面显示器、太阳能电池对高纯金属靶材的焊接结合率、平整度等指标提出了更高的要求。这样就对高纯金属靶材的生产工艺提出了更高的要求,行业具有极高的技术进入壁垒,因此目前,全球高纯金属靶材市场主要被美国和日本的少数公司所掌握,如日矿金属、霍尼韦尔、东曹、普莱克斯等。中国虽然已经有研科技集团有限公司、惠州市天亿稀有材料有限公司、宁波江丰电子材料股份有限公司等少数几家专业生产高纯金属靶材的企业,但是其基本上都集中在第二梯队,中国高纯金属靶材市场依然主要被外资企业所占据,中国高纯金属靶材行业距离完全国产化还有较长的一段路要走。

  根据新思界发布的《2020-2024年中国高纯金属靶材行业市场行情监测及未来发展前景研究报告》,未来,中国高纯金属靶材行业的国产化机遇主要体现在以下几个方面:首先,中国高纯金属靶材行业受到了国家政策的大力支持,《<中国制造2025>重点领域技术路线图》、《新材料产业发展指南》等重要的国家政策均有明确表示要大力发展高纯金属靶材行业;其次,下游电子信息、液晶显示、光学等领域的发展使得集成电路的线宽越来越窄,对材料提出了更高的需求,原来的材料组分、纯度、组织结构已不足以支撑集成电路技术指标的跃升,为高纯金属靶材行业提供了良好的发展机遇;再次,近年来,高纯金属靶材产业链中的下游工业面临着不同程度的成本压力,我国拥有平稳较快的经济发展速度以及持续活跃的终端消费市场,因此受到了跨国企业的亲睐,众多世界知名企业纷纷加大对中国的投资力度,不断将生产制造体系向中国转移,下游产业应用本土化程度的提高为国内高纯金属靶材行业带来了更加广阔的市场发展空间。

  新思界产业分析师表示,高纯金属靶材行业具有较高的技术进入壁垒,目前行业内企业数量少,市场集中度高,新企业的进入难度较大。